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濕法清洗設備
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濕法清洗設備

濕法清洗設備

ACM Ultra C SAPS 單片清洗設備

      ACM主要開展半導體設備研究、開發、設計、制造、銷售以及售后服務等業務,專注于濕法工藝設備,包括:無應力拋光設備,電化學鍍銅設備和單片兆聲清洗設備。盛美半導體設備設備擁有完善的自主產權和相關專利,目前申請超過140項國際及國內專利,并有超過60項已獲得授權。
  • 資料說明

 

應用領域

 

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